Очередное свидетельство того, как санкции и попытка технологической изоляции пошли на пользу России.
Зеленоградский нанотехнологический центр завершил испытания первого российского фотолитографа с разрешением 350 нанометров. Это — серьезный шаг к возрождению собственной литографической отрасли, критически важной для микроэлектроники.
Разрешение в 350 нм соответствует технологическому уровню конца 1980-х — начала 1990-х годов. Именно на этом уровне производились процессоры Intel Pentium первого поколения и многие промышленные микросхемы. Сегодня такие технологии используются в энергетике, автомобилестроении, военной технике и системах управления, где критичны надёжность и локальное производство, а не минимальный размер транзистора.
Несмотря на серьёзное отставание от западных EUV-технологий на 3–5 нм, Россия упорно идет к восстановлению суверенного производства собственной микроэлектроники. Впервые установка использует твердотельный лазер вместо ртутных ламп, а рабочее поле увеличено до 22×22 мм.
Следующий шаг — фотолитограф на 130 нм, запланированный к запуску в 2026 году. Это уже уровень массовой электроники начала 2000-х. В условиях санкций и технологической изоляции — движение пусть и медленное, но в правильную сторону.
По крайней мере, теперь у России появилась возможность закрывать ключевые потребности в промышленной и военной микроэлектронике собственными силами. Чипы с аналогичными техпроцессами — на уровне 250–350 нм — до сих пор широко применяются в США в оборонной, аэрокосмической и промышленной сфере, где приоритет отдают надёжности, стойкости к радиации и предсказуемости поведения микросхем, а не их размеру.
Нет сомнений, что России нужно продолжать развиваться на этом пути. Не стыдно признать отставание, стыдно, осознав его, ничего с этим не делать. Политика технологического суверенитета, провозглашенная Путиным, дает свои плоды и уже существенно сократила отставание России от мировых держав.